真空镀膜的简介

在真空中制备膜层，包括镀制晶志的金属半导体绝像体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、 低压或等离子体等直空手段， 但般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜溅射镀膜和离子镀。

真空镀膜技术初现于20世纪30年代，四五十年代开始出现工业应用，工业化大规模生产开始于20世280年代，在电子、字航、包装、装满资全印刷等工业中取得广泛的应用。 真空镀腰是指在真空环境下，将某种金属或全黑化台物以气相的形式沉积到材料表面(通常是非金属材科)， 属于物理气相沉积工艺。因为镀层常为金属薄膜，故也称真空金属化。广义的真空镀膜还包括在金属或非金属材料表面真空蒸镀聚台物等非金属功能性薄膜。

在所有被镀材料中，以塑科最为常见，其次，为纸张镀膜。相对于金属周至木材等材料， 望料具有来源充足， 性肥易于调控、加工方便呼优势，因此种类繁多的塑料或其他高分子材料作为工程装饰性结构材料，大量应用于汽车、家电日用包装工艺装饰等工业领域。 但塑科材料大多存在表面硬度不高、外观不够华国、耐糜性低等缺，如在望科表面蒸镀层极薄的金属薄膜 ，即可赋子塑科程亮的金属外观，合适的全属滞还可大大增加料表面耐磨性胞，大大拓想了塑料的装饰性和应用范围。

真空镀膜的功能是多方面的，这也决定了其应用场合非常丰富。总体来说，真空镀腰的主要功能包括赋子被镀件表面高度金属光泽和横面效果，在海腿材料上使规层具有出色的阳隔性脱，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。