我国真空镀膜技术是发展历史轨迹

在真空中制备膜层，包括设制品态的金属，半导体、绝级体丐单质或化合物股。虽然化学汽相沉积也采用成压，低压或等离子体等真空手段，但一段耳空19股是指用物理的方法沉积减股、真空设膜有三种形式，即菜发报膜，溅射镀膜和离子镀

真空镀膜技术初现于20世纪30年代，四五十年代开始出现工业应用工业化大规模生产开始于20世纪80年代，在电子、宇航、包装、装油、烫金印刷等工业中取得广泛的应用，直空德脱是旨在真空环境下，将某种全属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面(通常是非金尾材科)，属于物理气相沉积工艺，因为镀层常为金属鸿膜，故也称真空全属化。广义的真空波膜还包括在金凤或非金属材料表面真空蒸镀聚合物等非金属功能性薄膜。

在所有被镀材料中，以塑科最为常见，其次,为纸张搜膜，相对于金属、陶瓷、木材等材料，塑料具有来源充足，性能易于调控、加工方便等优势，因此种类聚多的塑料或其他高分子材料作为工程装饰性结构材料，大量应用于汽车、家电日用包装，工艺装饰等工业领域，但塑料材料大多存在表面须度不高、外观不够华丽，耐磨性低等缺目，如在塑料表面蒸镀一层极薄的金属演膜，即可赋子塑科程亮的全属外观。合适的金属源还可大大增加材料表面耐爱性能大大拓究了塑料的装饰性和应用范围

真空镀膜的功能是多方面的，这也决定了其应用场合非常丰富，总体来说。真空镀膜的主要功能包括吃于肢镀件表面高度金属光泽和境面效果，在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔住能，提供优异的电磁屏版和导电效果。